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真空鍍碳儀庫號:M363207

真空鍍碳儀庫號:M363207

簡要描述:真空鍍碳儀庫號:M363207
樣品倉尺寸:φ150mmX110mm
蒸發(fā)面積:約Φ140mm
高真空度:≤4×10-2mbar
工作電壓:220V,50HZ
蒸發(fā)輸出:電壓30V
蒸發(fā)靶材:碳棒、碳繩
蒸發(fā)大電流:約100A

產(chǎn)品型號: M-363207

所屬分類:儀

更新時間:2024-12-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹

真空鍍碳儀庫號:M363207真空鍍碳儀庫號:M363207

技術(shù)規(guī)格說明
樣品倉尺寸:φ150mmX110mm
蒸發(fā)面積:約Φ140mm
高真空度:≤4×10-2mbar
工作電壓:220V,50HZ
蒸發(fā)輸出:電壓30V
蒸發(fā)靶材:碳棒、碳繩
蒸發(fā)大電流:約100A

理想膜層的特點
1.導(dǎo)熱和導(dǎo)電性能。
2.不管樣品的表面形貌如何,覆蓋在部位的膜層需要薄厚均勻。
3.膜層對樣品的化學(xué)成分干擾小,對從樣品中發(fā)射的X射線強(qiáng)度影響弱。
4.這層膜主要增加樣品表面的導(dǎo)電性能和導(dǎo)熱性能,相較于導(dǎo)電金屬膜層的厚度普遍在10nm以上;可提供碳的鍍層,在3-4nm分辨率尺度內(nèi)不顯示其幾何形貌特點,避免引入人為圖像,鍍層均勻,適合粗糙的樣品,高分辨研究。
5.可以噴碳(碳棒或碳繩),對樣品中非碳元素的能譜分析。
6.非導(dǎo)電樣品觀察背散射電子圖像,進(jìn)行EBSD分析,也應(yīng)該噴碳處理。

主要用于掃描電鏡 EDS 樣品鍍導(dǎo)電膜 ,是配合SEM 制樣的儀器。

技術(shù)規(guī)格說明
樣品倉尺寸:φ150mmX110mm
蒸發(fā)面積:約Φ140mm
高真空度:≤4×10-2mbar
工作電壓:220V,50HZ
蒸發(fā)輸出:電壓30V
蒸發(fā)靶材:碳棒、碳繩
蒸發(fā)大電流:約100A



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